真空等離子清洗機常見問題，及常見問題處理方案， 在處理過程中,等離子體中被激活的分子和原子會發(fā)出紫外光，從而產生等離子體輝光。
 

　　等離子處理為什么需要真空環(huán)境？
 

　　在真空環(huán)境產生等離子體的原因很多，主要有有兩個原a因：
 

　　引入真空室的氣體在壓力環(huán)境下不會電離, 在充入氣體電離產生等離子體之前必須達到真空環(huán)境。
 

　　另外,真空環(huán)境允許我們控制真空室中氣體種類，控制真空室中氣體種類對等離子處理體過程的可重復性是至關重要的。
 

　　處理效果可以保持多長時間?
 

　　如處理表面保持干凈和干燥，大多數等離子處理后效果可以保持大約48小時，。但保持時間根據處理過程和產品存放環(huán)境而改變。
 

　　如果需要更長時間保持處理效果,清洗完成后立即真空袋包裝將延長保質期。
 

　　真空等離子處理是如何進行?
 

　　要進行等離子處理產品,首先我們產生等離子體。首先，單一氣體或者混合氣體被引入密封的低壓真空等離子體室。隨后這些氣體被兩個電極板之間產生的射頻(RF)激活，這些氣體中被激活的離子加速,開始震動。這種振動“用力擦洗”需要清洗材料表面的污染物。
 

　　在處理過程中,等離子體中被激活的分子和原子會發(fā)出紫外光，從而產生等離子體輝光。
 

　　溫度控制系統常用于控制刻蝕速率。60 - 90攝氏度溫度之間刻蝕，是室溫刻蝕速度的四倍。對溫度敏感的部件或組件,等離子體蝕刻溫度可以控制在15攝氏度。
 

　　我們所有的溫度控制系統已經預編程并集成到等離子體系統的軟件中間。設置保存每個等離子處理的程序能輕松復制處理過程。
 

　　可以通過向等離子體室中引入不同氣體，改變處理過程。常用的等離子處理氣體包括O2、N2,Ar,H2和CF4。世界各地的大多數實驗室，基本上都使用這五種氣體單獨或者混合使用，進行等離子體處理。
 

　　等離子體處理過程通常需要大約兩到十分鐘。當等離子體處理過程完成時,真空泵去除等離子室中的污染物，室里面的材料是清潔,消過毒的,可以進行粘接或下一步程序。
 

　　什么是等離子體清洗?
 

　　等離子體清洗是利用用一個叫做等離子體的電離氣體去除材料表面所有有機物的過程，通常是在真空室中利用氧氣和氬氣進行。清洗過程是一個環(huán)境安全的過程,不使用有毒害的化學物質。
 

　　等離子清洗能否去除雜質和污染？
 

　　原則上等離子清洗是不能去除大量的雜質的污染物。低壓等離子清洗機是一種經濟的表面處理方式，一致性好,安全,干凈。只從處理部分去除表面的污染物，不影響其它部分材料屬性。等離子體處理過程在電路板行業(yè)被廣泛使用。
 

　　等離子體處理比其他表面清洗技術提供了重要的優(yōu)勢。
 

　　它適用于大范圍的材料(金屬、塑料、玻璃、陶瓷等)。
 

　　它是環(huán)保的選擇。等離子體清洗不需要有害化學溶劑。顯著節(jié)約成本，可不需要解決其他處理方法對環(huán)境危害的問題。氧氣體通常是一個合適的處理氣體。
 

　　溶劑處理后會留下剩余物，等離子清洗能夠提供一個無殘留無的最終產品殘。處理消除了脫模劑、抗氧化劑、碳殘留物,油,和所有種類的有機化合物。