蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的用途:
蒸發(fā)鍍膜設(shè)備是指把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi),通過(guò)對(duì)鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積于基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過(guò)程??稍诟哒婵障抡舭l(fā)高質(zhì)量的不同厚度的金屬薄膜。蒸鍍薄膜種類(lèi):Au,Cr,Ag,Al,Cu,In,有機(jī)物等。
蒸發(fā)鍍膜設(shè)備的組成:
有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng);真空測(cè)量系統(tǒng);蒸發(fā)源;樣品加熱控溫;電控系統(tǒng);配氣系統(tǒng)等部分組成。
1.EC400是一臺(tái)高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備。
2.設(shè)備主要由真空室、蒸發(fā)源、膜厚監(jiān)測(cè)儀、樣品臺(tái)、真空獲得系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、PLC+觸摸屏自動(dòng)控制系統(tǒng)等組成。
3.該設(shè)備主機(jī)與控制一體化設(shè)計(jì),操控方便;結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小。
4.主要用途:
1. 開(kāi)發(fā)納米級(jí)單層、多層及復(fù)合膜層等。
2. 制備金屬膜、合金膜、半導(dǎo)體膜、陶瓷膜及介質(zhì)膜等,例:銀、鋁、 銅、C60、BCP......
5.應(yīng)用領(lǐng)域:
1. 高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開(kāi)發(fā)新產(chǎn)品等。
2. 鈣鈦礦太陽(yáng)能電池、OLED、OPV 太陽(yáng)能電池等行業(yè)。
6.小型實(shí)驗(yàn)設(shè)備的理想選擇/性能滿足各種實(shí)驗(yàn)需求/專(zhuān)業(yè)的服務(wù)確保用戶(hù)省心省力